La revista internacional Journal of Physics D: Applied Physics, ha seleccionado en su lista de artículos destacados del año (highlights for 2016), un estudio realizado entre centros y universidades de España, Finlandia y Rusia. El artículo, centrado en la escritura directa por láser sobre grafeno, está abierto a lectura y descarga gratuita durante las próximas semanas.
El estudio analiza los efectos de los láseres pulsados en régimen ultrarrápido (nano y femtosegundos) sobre grafeno monocapa sobre sustratos de Soi/SiO2, una de las vías más prometedoras para producir dispositivos micro y nanoelectrónicos con características extraordinarias.
Se analizan los dominios y ventanas de proceso que pueden producir ablación, aislamiento o funcionalización química del grafeno, y las características resultantes tras el procesado, abriendo la puerta a la escritura directa de electrodos, fototransistores y fotodiodos sobre un sustrato, en un único paso y sin aplicación de máscaras litográficas u otras posibles fuentes de contaminación del grafeno prístino.
Los procesos son muy sensibles a la calidad del sustrato y la existencia de defectos e islas bicapa sigue siendo un problema, pero el estudio revela varios mecanismos fotoquímicos que pueden ser explotados en un futuro cercano para la producción de dispositivos optoelectrónicos de alta eficiencia.
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